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工业EDI超纯水设备

新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的工业EDI超纯水设备来清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对EDI超纯水设备的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

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工业EDI超纯水设备详解

超纯水,电阻率达到18MΩ*cm(25℃)的水。常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

为满足用户生产工艺用水需求,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。

在工艺设计上,源水(市政自来水),经多介质过滤器,活性碳过滤器,钠型阳离子软化器、精密过滤器等预处理系统后进入二级RO反渗透系统,再进入EDI电除盐系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,由PLC控制系统完成包括阻垢剂计量泵、高压泵、电动慢开门的顺序启动和停止;停运时反渗透装置的自动低压冲洗;运行过程中低压压力开关与系统的连锁运行;各转动设备的运行监测和报警等。

工业EDI超纯水设备

超纯水处理:既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。超纯水处理,是一般工艺很难达到的程度,采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.25MΩ*cm(25℃)。

工业EDI超纯水设备的原理

1. 水进入纯化系统,主要部分流入树脂 / 膜内部,而另一部分沿模板外侧流动,以洗去透出膜外的离子。

2. 树脂截留水中的溶存离子。

3. 被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动。

4. 阳/阳离子透过阳离子膜,排出树脂 / 膜之外。

5. 浓缩了的离子从废水流路中排出。

6. 去离子水从树脂 / 膜内流出。

工业EDI超纯水设备特点

1.整体化程度高 , 易于扩展 , 增加膜数量即可增加处理量。

2.自动化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自动保护功能。

3.膜组件为复合膜卷制而成 , 表现出更高的溶质分离率和透过速率。

4.能耗低 , 水利用率高 , 运行成本低。

5.结构合理 , 占地面积少。

6.先进的膜保护系统 , 在设备关机 , 淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净 , 延长膜寿命。

7.系统无易损部件 , 无须大量维修 , 运行长期有效。

8.设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。